1、清洁规范
使用丙酮→酒精→去离子水三步擦拭法清除表面微粒，烘烤温度控制在100℃防止氧化。
陶瓷类铬靶需用高压氩气冲洗，清除引发电弧的杂质颗粒。
2、真空环境控制
腔体抽真空至≤5×10⁻⁴ Pa后充氩，露点温度≤-40℃避免水汽污染。
定期用玻璃球喷砂清理腔壁沉积物，酒精/丙酮擦拭后需工业吸尘器辅助清洁。
二、安装与热管理
背板导热：背板平整度公差≤0.02mm/m，靶材-冷却壁间加垫石墨纸提升热传导效率；
紧固控制：金属靶对角线分步拧紧螺栓，陶瓷靶预留0.5mm热膨胀间隙防裂；
密封检测：阴极装靶后需电阻表测短路，水循环试压≥0.3MPa检漏；
三、溅射工艺调控
1、气体参数
氩气纯度≥99.999%，流量控制精度±0.1 sccm，维持腔压0.3-0.5Pa。
反应溅射掺氮时，N₂/Ar比例偏差需<1%。
2、功率与预溅射
初始功率密度≤1.5W/cm²，10分钟预溅射清除表面氧化物。
靶电流波动幅度≤±5%，异常电弧次数＞3次/分钟需停机检查。
四、质量保障措施
1、微观缺陷防控：晶粒尺寸需≤100μm，气孔率＜0.5%。
2、成分稳定性：高纯铬靶铁杂质≤50ppm，氧含量≤200ppm。
3、机械可靠性：热震测试需耐受200℃温差循环，抗弯强度＞150MPa防运输断裂。
失效警示：靶面出现纵向裂纹或边缘发黑应立即停用。